工业超声波清洗机_高压喷淋清洗机_手机玻璃清洗机-润斯普瑞超声科技（苏州）有限公司

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各类非标超声波清洗设备的研发，生产，销售和服务为一体的企业！

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公司坐落于环境优美的苏州相城区，是从事超声波清洗机，全自动超声波清洗机，超声波工业清洗机等各类非标超声波清洗设备的研发，生产，销售和服务为一体的企业。

公司拥有管理团队和技术研发团队，行业精英遍布各个岗位，携手为您打造先进的工业自动化设备。公司设计生产非标专业的自动化清洗设备，如碳氢化合物真空超声波清洗设备、高、低压喷淋清洗设备、超声清洗设备、高压射流清洗设备、平板液晶清洗设备等，从公司创立之初，就确立了“研发为王”的战略方针，日益构建了完备的研发体系，形成了良好的研发机制，不拘一格引进人才。

公司设有研发、营运、营销、财务和人力资源五大系统。自成立以来，公司资产速度迅速增长。公司拥有现代化的工业厂房和大批先进的进口生产设备。

公司简介

企业文化

荣誉资质

超声波清洗机

‌工业超声波清洗机‌是一种利用超声波技术进行清洗的设备，广泛应用于各种工业领域。其工作原理是通过超声波发生器发出高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡，使液体产生数以万计的微小气泡，这些气泡在负压区形成、生长，在正压区迅速闭合并产生冲击波，从而剥离物体表面的污垢‌。

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高压喷淋清洗机

高压喷淋清洗机是一款连续式清洗的设备。高压喷淋清洗机由电子控制、高压水泵、储液箱组成，使用单相380V电源，高压喷淋清洗机操作简单，故障少，清洗效果统一。

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真空碳氢超声波清洗机

真空碳氢超声波清洗机是一种清洗精密工业部件的清洗设备。真空碳氢超声波清洗机由清洗干燥机主体、超声波系统、真空脱气系统、循环过滤系统、机械臂系统，真空干燥系统、真空蒸馏回收系统、HC浓度监测系统、自动灭火系统及电气控制系统等。

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全自动光学玻璃清洗机

玻璃清洗机是玻璃在制镜、真空镀膜、钢化、热弯、中空玻璃合片等深加工工艺前工序对玻璃表面进行清洁、干燥处理的专用设备。玻璃清洗机主要由传动系统、刷洗、清水冲洗、纯水冲洗、冷、热风干、电控系统等组成。根据用户需要，中大型玻璃清洗机还配有手动（气动）玻璃翻转小车和检验光源等系统。

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改性醇醚清洗机

改性醇清洗机采用改性醇作为清洗介质，其高效性能令人瞩目。相比传统清洗方式，它能够更快地去除各种顽固污渍和油脂，提高清洗效率。先进的物理和化学清洗方法，能够深入物体表面，将污渍彻底分解并带走，确保清洗效果达到最佳。这种高效性能不仅降低了人工成本，还为企业节省了大量时间，提高了生产效率。

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清洗中心

清洗中心，用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过程及维护时生成或侵入的污染物；也可以适用于对工作油液的定期维护过滤，提高清洁度，避免或减少因污染而造成的故障，从而保证液压系统设备的高性能、高可靠度和长寿命。

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精密冲压后清洗机

冲压零件清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物，使工件表面达到一定的洁净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间的相互作用，是一种复杂的物理、化学作用的过程。清洗不仅与污染物的性质、种类、形态以及粘附的程度有关、与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、表面状态有关、还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声振动、机械外力等因素有关。

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半导体阳极氧化清洗线

半导体阳极氧化清洗线是一种高效、环保的清洗设备，广泛应用于半导体阳极氧化的清洗工作中。它通过利用超声波在液体中的空化作用，产生高频振动和微射流冲击力，对半导体阳极氧化进行剥离和清洗。

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应用领域

工业领域

医疗领域

光学领域

半导体领域

光刻机零部件领域

新能源汽车电机领域

机械加工常用清洗机类型及技术特点

（1）超声波清洗机工作原理：利用超声波在清洗液中产生的 "空化效应"，形成微小气泡破裂时的冲击力，剥离零件表面的顽固污渍（如抛光蜡、烧结碳化物）。优势：适用于复杂结构零件（如盲孔、深槽、多孔件），清洗精度可达 5-10μm，自动化程度高，可集成到生产线。典型应用：电子元件（如 P...

清洗机在机械加工中的核心应用场景

1. 加工前预处理去除毛坯杂质：铸件、锻件毛坯表面的型砂、氧化皮、脱模剂等需在机加工前清除，避免污染切削液、加剧刀具磨损。消除仓储污染物：库存零件表面的防锈油、灰尘等影响定位精度，需通过清洗确保夹具与零件贴合紧密。2. 工序间清洗切削液残留处理：车削、铣削等工序后，零件表面残留的乳化液、切削油若未清...

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科研设备的定制化清洗

模块化设计的清洗机可适配不同仪器，如电子显微镜载物台、光谱仪透镜等。某实验室引入的定制机型支持柔性清洗力度，避免精密光学元件划伤，同时通过AI算法优化清洗参数（如pH值、时间），能耗降低30%。

手术器械清洗

工业超声波清洗机能彻底清除手术器械上的血液、组织液及生物膜，尤其是复杂结构的器械（如内窥镜、关节器械）。例如，超声波技术通过空化效应可穿透管腔和缝隙，配合多频设计（20-130 kHz）适应不同材质，清洗效率比传统手工清洗提升20倍以上。

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超声波清洗机在半导体制造中的核心应用场景

晶圆清洗在半导体前端工艺中，晶圆表面残留的金属离子、抛光颗粒（如氧化铈）和有机物需彻底清除。超声波通过高频空化效应（20kHz-1MHz）剥离污染物，清洗后晶圆表面洁净度可达5颗粒（0.3μm）/cm²，满足光刻、沉积等后续工艺要求。例如，多晶硅晶片清洗需结合去离子水与碱液的多级工艺，通过机械臂自动...

超声波清洗机在手机镜头清洁中的技术应用

手机镜头作为精密光学元件，其表面纳米级污渍（如指纹、油膜、灰尘）会显著影响成像质量。超声波清洗技术凭借非接触式物理清洁优势，已成为手机镜头生产与维护的核心工艺之一。一、技术原理与参数适配超声波清洗通过高频振动（20kHz-132kHz）在液体中产生空化效应，形成微米级气泡爆破（直径10-50μm），...

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半导体设备清洗的重要性

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芯片封装前清洗：保障封装质量的关键环节

在芯片制造流程中，封装前的清洗工序至关重要。芯片在前期制造过程中，表面会残留光刻胶、金属离子、颗粒污染物以及有机物等杂质，若不及时清除，这些污染物会导致芯片与封装材料结合不良，引发电气短路、信号传输异常等问题，大幅降低芯片的可靠性与使用寿命。光刻胶是芯片光刻工艺的重要材料，在完成图形转移后，必须彻底...

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一、核心清洗对象‌动力系统部件‌：发动机缸体、缸盖、曲轴等关键金属部件，需清除加工残留的切削液、防锈油及金属碎屑；‌传动装置‌：变速箱壳体、齿轮组件、离合器片等，需去除装配前的油污与粉尘污染；‌辅助部件‌：涡轮增压器组件、油底壳等复杂结构件，需通过高压水流穿透缝隙完成深度清洁。二、技术优势‌高压喷淋...

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